ICT/융합

中, 세계 첫 초해상도 자외선 리소그래피 장비 개발에 성공

발행일 : 2018 / 12 / 03

최근 중국과학원 광전기술연구소는 세계 최초로 최고 해상도의 자외선 초해상도 리소그래피 장비를 개발하여 완전 자체적 지식재산권을 보유한 새로운 나노 포토리소그래피 공정 로드맵을 형성하였다.

7년간 연구하여 개발한 해당 장비는 365nm 파장의 광원을 사용하였고 1회 노광 최대 선폭 해상도는 22nm에 달한다. 이를 기반으로 다중 노광 기술을 결합시키면 10나노급 칩 제조도 가능하다.

동 프로젝트는 원리적인 차원에서 해상도 회절한계를 극복함과 아울러 고해상도 대면적 나노 포토리소그래피 장비 개발의 새 노선을 개척함으로써 국외 관련 지식재산권의 규제를 해소하였다. 칩 제조의 핵심 장비인 포토리소그래피 장비는 사진인화와 유사한 기술을 적용해 대형 회로설계도를 작은 칩에 축소·인쇄한다. 포토리소그래피 정밀도가 높을수록 칩 부피를 줄일 수 있고 성능도 향상시킬 수 있다. 하지만 광파의 회절 효과로 인해 포토리소그래피 정밀도는 한계에 부딪친다. 이를 극복하기 위해 광파를 줄이거나 이미징 시스템의 개구수(numerical aperture)를 높이는 등 기술적 경로를 통해 포토리소그래피 장비를 개선하고 있지만 원가가 높고 효율이 낮은 등 문제점이 존재한다.

이번에 검수에 통과한 표면 플라스몬 초해상도 포토리소그래피 장비는 기존 로드맵에서 벗어나 완전 자체적 지식재산권을 보유한 새로운 나노 포토리소그래피 기술 노선을 형성하였다. 해당 기술 로드맵은 메타소재/메타표면, 3세대 광학소자, 일반화 칩 등 변혁성 분야의 도약적 발전을 위해 제조도구를 제공하였다.