기초과학

중국 나노식각기술 연구 진전

발행일 : 2011 / 05 / 20

중국과학원 광전기술연구소 마이크로식각기술 및 마이크로광학실험실은 마이크로구조의 경계에 기반한 LSP 초고해상도 식각기술을 개발하였다. 이 기술은 마이크로나노구조의 경계를 마스크패턴(mask patterns)으로 삼아 표면플라즈마를 효과적으로 여기시켰고, 보통 I-line, G-line 광원으로 특정치수 30nm 미만의 초고해상도 리소그래피를 획득하였다.

일반 마이크로식각공법은 가능한 한 짧은 노출파장을 채택하여 100nm 심지어 수십 nm 수준의 리소그래피 해상도를 획득하는 것이 목적이다. 하지만 노출파장이 단축됨에 따라 식각장비 전체의 원가도 급격히 상승하고 있는 추세이다. 현재 시판되는 주류설비인 193리소그래피의 판매가격은 수천만달러를 호가한다. 장비가 지나치게 비싼 관계로 단파장 광원식각기술의 응용이 크게 제약받고 있다.

표면플라즈마 광학기술의 개발은 마이크로식각기술의 발전에 새로운 선택 기회를 제공하였다. 표면플라즈마의 단파장을 이용하여 마스크 패턴과 매개변수의 합리적인 설계를 통한 초고해상도의 나노식각기술이 형성될 전망이다.

이러한 배경가운데 연구원은 마이크로구조 경계 기반의 LSP 초고해상도 식각기술을 개발한 것이다. 이론연구 결과, 이 기술로 특정치수가 1/10 노출파장보다 작은 나노구조를 획득하였고, 또한 365nm 광원을 이용한 실험으로 회절한계를 넘어선 리소그래피 해상도를 획득할 수 있다. 이는 중국에서 급성장하고 있는 정보산업기술 및 나노기술에 중요한 기반이 될 것이다.