| 퉁지대학, 클론 배아 발달 이상 후성유전 메커니즘 규명 | ||
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 최근, 퉁지(同濟)대학 가오사오룽(高紹榮)과 장융(張勇) 프로젝트팀은 다양한 발달 운명 체세포 클론 배아에 대한 전유전체 DNA 메틸화 분석을 통하여 비정상적인 DNA 재메틸화는 클론 배아 착상 후 발달 이상을 유발하는 핵심 요인임을 규명하였다. 해당 연구성과는 "Cell stem Cell"에 게재되었다. 체세포 클론은 다양한 동물에서 이미 성공하였지만 클론 배아에서 DNA 메틸화의 재프로그래밍 과정 및 그 클론 효율에 대한 영향은 밝혀지지 않았다. 연구팀은 미량 세포 전유전체 중아황산염 시퀀싱 기술을 이용하여 최초로 다양한 발달 운명의 클론 배아 삽입전 발달 과정의 전유전체 DNA 메틸화 지도(methylation map)를 작성하였다. 연구 결과, 클론 배아 조기 발달 과정에서 관련 위치의 DNA 메틸화 동적 변화는 재메틸화 현상이 존재함을 발견하였다. 연구팀은 다양한 발달 운명 클론 배아와 정상 수정 배아가 동일한 발달 단계에서의 DNA 메틸화 차이에 대한 비교를 통하여 광범위한 재메틸화 위치(rDMR)를 감정함과 아울러 해당 재메틸화 현상은 발달지체 클론 배아에서 더욱 뚜렷함을 발견하였다. 특히 DNA 메틸화효소의 발현 간섭을 통하여 클론 배아에서 이상 DNA 재메틸화 수준을 효과적으로 감소시킬 수 있고 클론 배아의 특정 전사물(Transcript)을 활성화시킬 수 있으며 또한 클론 배아의 체내외 발달 효율을 개선시킬 수 있음을 발견하였다. 해당 과정을 통하여 획득한 클론 동물 태반 발달도 뚜렷하게 개선되었는데 이는 기존의 다양한 후성유전 장애 기반의 방법으로 구현할 수 없다. 본 연구는 착상 후 클론 배아의 이상 발달 연구에 새로운 아이디어를 제공하였다. 연구팀은 또한 클론 배아의 이상 DNA 재메틸화 및 히스톤 수식 재프로그래밍 결함은 2종 상대적으로 독립된 "방어체계"임을 발견하였다. 따라서 DNA 메틸화효소 및 과발현 히스톤 탈메틸화효소 녹다운(Knock down) 2종 조치를 통하여 클론 성공률을 약 17% 향상시킬 수 있다. 정보출처 : http://news.sciencenet.cn/htmlnews/2018/10/418992.shtm |
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