| 화중과학기술대학, 중국 최초 OPC 소프트웨어 개발 성공 | ||
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□ 중국산 OPC 소프트웨어 개발 성공으로 반도체 ‘차보즈(卡脖子)’ 문제 해결(11.29)
○ 최근 중국 화중과학기술대학 기계대학 류시원(劉世元) 교수 연구팀은 중국 내 최초의 100% 자체개발한 OPC 소프트웨어 출시
- 포토리소그래피(Photolithography)는 칩 생산의 가장 중요한 프로세스로 포토리소그래피 이미징 시스템을 통해 설계된 칩 패턴을 실리콘 웨이퍼로 이동
- 칩 크기가 계속 줄어들면서 실리콘 웨이퍼의 노광 패턴에 왜곡이 생기기 때문에 90nm 또는 180nm 미만의 칩을 생산하기 전에 OPC(Optical Proximity Correction) 소프트웨어 도구를 활용하여 최적화 처리
- 글로벌 OPC 소프트웨어 분야는 미국 Synopsys, Mentor, ASML-Brion 등 3개사가 독점하고 있으나, 중국 OPC 소프트웨어 제품 개발이 성공하면 ‘차보즈’ 기술 문제 해결
 <참고자료>
我国首款！华中大团队成功研发计算光刻EDA软件
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기술동향
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