| 중국 유황계 박막으로 고해상도 회색도 석판인쇄 성공 | ||
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이번 연구를 통해 레이저를 이용해 유황계 박막 표면에서 부조구조(relief structure)를 형성하였고, 레이저펄스에너지를 정밀 제어하는 수단으로 다양한 높이와 규격의 부조구조를 얻었으며, 다양한 높이와 규격의 부조구조가 다양한 반사(투과) 스펙트럼을 생성할 수 있음을 처음으로 발견하였다. 또한 이 효과를 이용하여 회색도 석판인쇄에 성공하였고 Sb2Te3 박막 위에서 연속 회색도를 인쇄하는데 성공하였다. “Nature photonics”지 편집을 맡은 Simon Pleasants 박사는 “유황계 박막은 상변화 물질(PCM, phase-change material)로서 광학기억장치, 반도체 기억장치에서 널리 응용되고 있는데, 이는 유황계 박막의 비결정체상태와 결정체상태가 지닌 광학 특성과 전기학 특성에서 비롯된 것이다. 현재 유황계 박막의 액체, 기체, 정질 및 비정질의 4가지 상태를 이용해 유황계 상변화 물질을 회색도 사진식각(포토에칭) 재료로 사용하여 회색도(Gray-scale patterns)를 구현하였다는데서 의의가 크다”고 평가했다. 이 연구는 레이저로 유황계 상변화 물질 표면에 직접 부조구조를 형성하여 복잡한 회색도안의 제조를 위해 새로운 솔루션을 제공하였는데, 기존의 영상기술, 전자빔 사진식각 혹은 집속 이온빔(focused ion beam) 사진식각기술과는 다른 새롭고 간단하면서도 저렴한 제조공법에 속한다. 전문가에 따르면 돌출된 부조구조로 인해 광학성능은 고해상도의 마이크로나노 이미지 기억장치, 초소형 예술품 가공과 회색도 마스크 제조 등 다양한 분야에서 잠재된 응용가치를 지닌다. 정보출처 : http://www.wokeji.com/explore/qykj/201411/t20141127_878391.shtml |
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