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첫 28nm 중국산 노광기 곧 납품
  • 등록일2020.06.09
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상하이마이크로전자장비(그룹)주식유한회사(아래 상하이마이크로전자)가 개발한 첫 28nm 공정 중국산 액침노광기(Immersion Lithography)가 2021~2022년에 납품될 예정이다. 동 노광기는 현재 세계 최첨단 7nm 더 나아가 5nm 노광기와는 몇 세대 떨어지지만 기존의 중국산 90nm 노광기에 비하면 그 격차는 대폭 줄었다.
중국 내 최고 기술력의 노광설비 제조업체인 상하이마이크로전자는 하단 세분화 시장으로부터 파고들어 현재 중국시장의 80%, 세계시장의 40%를 점유한 패키지·테스트 선두기업의 주요 공급업체로 자리매김하였다. 또한 LED/MEMS/출력소자 노광기 성능지표는 선두를 달리고 있고 LED 노광기 시장점유율은 1위를 차지한다.
상하이마이크로전자의 기존 4대 계열화 노광기 제품 중 600계열의 스텝 스캐닝 투영 노광기는 IC 전공정(Front End) 제조를 겨냥해 4배 축소배율의 투영대물렌즈, 공정 자가 적응 포커싱·레벨링 기술, 고속 고정밀도 자가 진동감쇠 6자유도 웨이퍼 스테이지(Wafer Stage)·레티클 스테이지(Reticle Stage) 기술을 채택하였기에 90nm, 110nm, 280nm 공정 및 200mm, 300mm 웨이퍼 생산에 사용할 수 있다.
이외 500계열은 IC 후공정(Back End) 첨단 패키징을, 300계열은 LED/MEMS/출력소자 제조를, 200계열은 TFT 노광을 겨냥하였다.

정보출처 : https://laser.ofweek.com/2020-06/ART-8120-2400-30443158.html